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原位式激光气体分析系统

激光过程气体分析系统的测量探头由发射单元和接收单元组成,发射单元由人机界面、激光器驱动模块、中央处理模块、半导体激光器和精密光学元件等器件组成;接收单元由光电传感器、信号处理模块、电源模块和精密光学元件等部分组成;吹扫单元由过滤器、减压阀和稳流装置等组成;正压控制模块采用隔爆设计,内置压力传感、信号处理、电源控制和信息显示等模块。
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产品特性:

1.无气体交叉干扰,特定组分气体只在特定波长下存在吸收谱,具有较强的气体选择性;

2.独特的光路设计,能有效消除现场振动对光路的影响;

3.测量方式灵活,既可适应于高达1000℃高温下的原位测量,亦可配备旁路采样系统对气体分析监测;

4.光强补偿算法,保证仪器在高粉尘、高颗粒物的工况条件下仍准确分析监测;

5.多种测量方式,直接吸收,结合专业的谱图分析方法,保证测量结果的灵敏度和线性范围;

6.温度、压力补偿,外部温度、压力输入或内置温度、压力传感器,结合优化的补偿算法,提高测量准确性;

7.采用分布式微处理技术,分析速度快,响应时间≤1s。


技术指标:

技术指标
测量技术TDLAS
测量组分HF、HCL、O2、CO、CO2、H2O、O2、NH3、CH4等
测量准确度±2 F.S.,±4 F.S.,±6%F.S.
测量范围最小量程(1) 最大量程(1)
NH30~10ppm 0~5000ppm
HF0~2ppm 0~2000ppm
HCL0~10ppm 0~3000ppm
CO/CO20~2000ppm 0~100vol%
H2O0~10ppm 0~3000ppm
O20~3vol% 0~100vol%
防护等级主机IP20,发射、接收单元IP66

IP65

激光分析仪IP66,二次仪表IP65
工作条件
电源220VAC,50Hz
吹扫气0.3~0.8MPa,15L/min
工作温度0-95%RH,-10℃-50℃
光学端工作温度5-95%RH,-40℃-65℃不结露
气体压力25~200kPa
接口信号
数字通讯接口RS485/以太网
模拟量输入8路4-20mA4路4-20mA2路4-20mA
模拟量输出8路4-20mA4路4-20mA2路4-20mA
继电器输出8路24V/1A5路24V/1A3路24V/1A

应用领域:

应用行业测量对象
电解铝厂等HF,HCL,NH3尾气排放监测
燃煤电厂烟气脱硝工艺的NH3逃逸监测
钢铁行业转炉,高炉,喷煤等CO,CO2,O2监测
石化,化工行业腐蚀性气体HF,H2S和微量H2O监测
垃圾焚烧HF,HCL,CO,CO2
垃圾填埋H2S,NH3
烟草加工CO,CO2
废水处理H2S
环境空气H2S,NH3,CO,CO2监测
工业工艺流程H2O,CO2,O2监测